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產(chǎn)品名稱(chēng):
RTP-1200快速退火爐

產(chǎn)品概要: 韓國Ecopia公司生產(chǎn),最大樣品尺寸:15mm X 20mm。RTP-1200特點(diǎn):使用單相電,普通照明電即可使用;風(fēng)冷設計、無(wú)須采購冷水機;真空退火,可以使用氫氮混合氣(<10%比例氫氣)。
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產(chǎn)品編號
11
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產(chǎn)品展示
參數

RTP-1200小型快速退火爐(RTP/RTA)為韓國進(jìn)口的快速退火爐。
該儀器:尺寸小巧,使用風(fēng)冷、無(wú)須水冷,電流要求不高(3安培),性?xún)r(jià)比高,使用方便,非常適合科研院所的科研使用。

技術(shù)規格:
  - 加熱方式:紅外鹵素燈,600W;
  - 紅外燈數量:4支;
  - 最快升溫速率:100℃/秒;
  - 最快降溫速率:50秒(1000℃ → 400℃);
  - 最高溫度:1200℃;
  - 溫度精度:+/-0.3℃
  - 最大樣品尺寸:15 x 20mm;
  - 退火環(huán)境:真空、惰性氣體、空氣、其他工藝氣氛(如氧氣、氫氮混合氣等);
  - 真空泵及極限壓力:機械泵,10-3Torr水平(選配);
  - 電壓:220 V,單相;
  - 儀器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);
  - 質(zhì)量:凈重30Kg;

 

儀器特點(diǎn):

  • 可在真空/不同氣氛/空氣不同環(huán)境下,對樣品進(jìn)行快速熱處理;
  • 溫控精度高;
  • 無(wú)須配置冷水機;
  • 無(wú)須使用三相電,普通實(shí)驗室單相電即可使用;
  • 緊湊的臺式設計;
  • 儀器操作方便,樣片裝取容易;
  • 適合高?;蜓芯克蒲惺褂?;
  • 價(jià)格合理,高性?xún)r(jià)比;
  •  

應用領(lǐng)域:

  • 快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
  • 快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
  • 快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
  • 硅化 (Silicidation);
  • 擴散 (Diffusion);
  • 化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
  • 離子注入后退火 (Implant Annealing);
  • 電極合金化 (Contact Alloying);
  • 晶體化和致密化 (Crystallization and Densification);
  • 合金熔點(diǎn)分析;
  • 薄膜沉積;
  • 等等…

 

參考用戶(hù):
北京大學(xué)、南京大學(xué)、吉林大學(xué)、湖南大學(xué)、廣西大學(xué)、齊齊哈爾大學(xué)、西北大學(xué)、中科院北京納米所、中科院蘇州納米所、蘇州EST等。

關(guān)鍵詞:
快速退火爐;
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