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產(chǎn)品名稱(chēng):
RTP-150快速退火爐

產(chǎn)品概要: 德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),最大樣品尺寸:6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸樣品,RTP-150可以支持惰性氣體保護、低真空或高真空快速熱處理。
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RTP-150快速退火爐為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),最快升溫速度:150攝氏度每秒,可以用于最大6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸樣品熱處理。RTP-150可以支持惰性氣體保護、低真空或高真空熱處理。

 

技術(shù)規格:
- 最高溫度:1000攝氏度,或1200攝氏度(選配);
- 升溫速率:75攝氏度/秒,或150攝氏度/秒(選配);
- 降溫速度:200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度);
- 溫控均勻性:≤ 1.5%設定溫度;
- 加熱方式:紅外鹵素燈,頂部及底部加熱;
- 燈管數量及功率:24支/21千瓦;
- 腔體冷卻:水冷方式;
- 襯底冷卻:氮氣吹掃;
- 工藝氣路:MFC控制,最多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等);
- 主機尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),約55Kg;


 
儀器特點(diǎn):
- 快速退火爐,有惰性氣體保護、低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa)等多個(gè)配置;
- 可在不同氣氛環(huán)境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;
- 控制方式:SIMATIC, SPS人機界面控制,7英寸觸摸屏;
- 可存儲50個(gè)程序,每個(gè)程序最多分為50段控制;
- 全自動(dòng)智能控制,包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空度、循環(huán)水均可自動(dòng)設置;
- 優(yōu)異的溫控均勻性,極佳的工藝重現性;
- 臺式設計;


 
應用領(lǐng)域:
- 離子注入/接觸退火;
- 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用;
- SiAu, SiAl, SiMo合金化;
- 低介電材料;
- 晶體化,致密化;
- 太陽(yáng)能電池片鍵合;
等等...

 

參考客戶(hù):
西安交通大學(xué)、西安電子科技大學(xué)、中國科技大學(xué)、江漢大學(xué)、中科院上海技術(shù)物理所、中科院蘇州納米所、北京航天儀器研究所、京東方、武漢光迅、能華微電子等。

關(guān)鍵詞:
快速退火爐
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