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光學(xué)薄膜測厚儀

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產(chǎn)品名稱(chēng):
光學(xué)薄膜測厚儀

產(chǎn)品概要: 薄膜表面或界面的反射光會(huì )與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數等有關(guān),因此可通過(guò)計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無(wú)損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù),我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。 該產(chǎn)品是一款價(jià)格適中、功能強大的膜厚測量?jì)x器。近幾年,每年的全球銷(xiāo)售量都超過(guò)200臺。根據型號不同,測量范圍可以從10nm到250um,它最高可以同時(shí)測量4個(gè)膜層中的3個(gè)膜層厚度(其中一層為基底材料)。該產(chǎn)品可應用于在線(xiàn)膜厚測量,測氧化物、SiNx、感光保護膜和半導體膜,也可以用來(lái)測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。
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光反射薄膜測厚儀
原產(chǎn)國:美國
薄膜表面或界面的反射光會(huì )與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數等有關(guān),因此可通過(guò)計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無(wú)損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù),我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。
該產(chǎn)品是一款價(jià)格適中、功能強大的膜厚測量?jì)x器。近幾年,每年的全球銷(xiāo)售量都超過(guò)200臺。根據型號不同,測量范圍可以從10nm到250um,它最高可以同時(shí)測量4個(gè)膜層中的3個(gè)膜層厚度(其中一層為基底材料)。該產(chǎn)品可應用于在線(xiàn)膜厚測量,測氧化物、SiNx、感光保護膜和半導體膜,也可以用來(lái)測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。
 
應用領(lǐng)域

理論上講,我們的光干涉膜厚儀可以測量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下為我們最熟悉的應用領(lǐng)域(半導體薄膜,光學(xué)薄膜涂層,在線(xiàn)原位測量,粗糙或弧度表面測量):
- 晶片或玻璃表面的介電絕緣層(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);
- 晶片或玻璃表面超薄金屬層(Ag, Al, Au, Ti, ...);
- DLC(Diamond Like Carbon)硬涂層;SOI硅片;
- MEMs厚層薄膜(100μm up to 250μm);
- DVD/CD涂層;
- 光學(xué)鏡頭涂層;
- SOI硅片;
- 金屬箔;
- 晶片與Mask間氣層;
- 減薄的晶片(< 120μm);
- 瓶子或注射器等帶弧度的涂層;
- 薄膜工業(yè)的在線(xiàn)過(guò)程控制;等等…

 

軟件功能
豐富的材料庫:操作軟件的材料庫帶有大量材料的n和k數據,基本上的常用材料都包括在這個(gè)材料庫中。用戶(hù)也可以在材料庫中輸入沒(méi)有的材料。
軟件操作簡(jiǎn)單、測速快:膜厚測量?jì)x操作非常簡(jiǎn)單,測量速度快:100ms-1s.
軟件針對不同等級用戶(hù)設有一般用戶(hù)權限和管理者權限。
軟件帶有構建材料結構的拓展功能,可對單/多層薄膜數據進(jìn)行擬合分析,可對薄膜材料進(jìn)行預先模擬設計。
軟件帶有可升級的掃描功能,進(jìn)行薄膜二維的測試,并將結果以2D或3D的形式顯示。軟件其他的升級功能還包括在線(xiàn)分析軟件、遠程控制模塊等。

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