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光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

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產(chǎn)品名稱(chēng):
光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

產(chǎn)品概要: 光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,紫外曝光機等。ECOPIA為全球領(lǐng)先的半導體設備供應商,多年來(lái)致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力;并且其設備被眾多著(zhù)名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù),贏(yíng)得了用戶(hù)的青睞。
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光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,紫外曝光機等;ECOPIA為全球領(lǐng)先的半導體設備供應商,多年來(lái)致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力;并且其設備被眾多著(zhù)名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù),贏(yíng)得了用戶(hù)的青睞。

產(chǎn)地:韓國ECOPIA公司;

型號:M-150

技術(shù)規格:

- 掩模尺寸:最大7英寸;

- 樣品尺寸:最大6英寸;

- 卡盤(pán)移動(dòng):X,Y,Z,Theta軸手動(dòng),楔形補償調平;

- 紫外光源:6.25" X 6.25";

- 光源功率:350瓦紫外燈;

- 光源均勻性:<+/-3%;

- 光源365nm波長(cháng)強度:最大30毫瓦;

- 顯微鏡:雙顯微鏡系統;

- 顯微鏡移動(dòng):X,Y,Z軸手動(dòng)調節;

- 顯微鏡物鏡空間:50-150mm;

- 標配放大倍率:80X-400X;

- 顯示器:20" LCD;

- 曝光時(shí)間:0.1-999秒;

- 接觸模式:真空接觸,硬接觸,軟接觸,接近接觸(距離可調);

- 對準精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);

- 電源:220V,單相,15安培;

主要特點(diǎn):

- 光源強度可控;

- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);

- 系統控制:手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)控制;

- 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式;

- 真空吸盤(pán)范圍可調;

- 專(zhuān)利技術(shù):可雙面對準,可雙面光刻,具有IR和CCD模式

- 雙CCD顯微鏡系統,最大放大1000倍,顯示屏直接調節,比傳統目鏡對準更方便快捷,易于操作。

- 特殊的基底卡盤(pán)可定做;

- 具有楔形補償功能;

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