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原子層沉積系統
美國埃米Angstrom Dep III原子層沉積系統,包括:傳統的熱原子層沉積系統(TALD)、等離子增強原子層沉積系統(PEALD)、粉末樣品的原子層沉積系統(Power-ALD)。
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電子束蒸發(fā)鍍膜機
電子束蒸發(fā)系統是化合物半導體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)。它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬,使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜??烧舭l(fā)很多難熔金屬或者蒸汽壓低的金屬材料,包括Ta, W, Mo, Rh, C, B, Pt, Al2O3, ZnO, Pr2O3…VS5電子束蒸發(fā)鍍膜機是英國牛津真空公司生產(chǎn),臺式設計、軟件自動(dòng)操控、高性?xún)r(jià)比,非常適合實(shí)驗室科研使用。
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電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機
VS5電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機是英國牛津真空公司生產(chǎn),臺式設計、軟件自動(dòng)操控、高性?xún)r(jià)比,非常適合實(shí)驗室科研使用。 通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱(chēng)為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。
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